美國再頒專利申請程序及條件

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隨著經(jīng)濟(jì)貿(mào)易的全球化，越來越多的人不僅僅只申請國內(nèi)專利，也開始了申請國際專利。美國作為西方發(fā)達(dá)國家，很多人選擇申請美國專利，在美國專利申請中有一個獨(dú)特的說法就是再頒申請。那么什么是美國再頒專利申請程序？美國再頒專利申請的條件有哪些呢？專大師小編為您帶來相關(guān)解答。

什么是美國再頒專利申請程序？

當(dāng)通過美國商標(biāo)局和專利局審查、批準(zhǔn)和授權(quán)美國的專利申請獲得專利時(shí)，專利所有人發(fā)現(xiàn)專利中存在遺漏、錯誤或缺陷，申請人現(xiàn)可建議再次進(jìn)行專利申請程序，以解決問題。它被認(rèn)為是保持專利“有效性”的機(jī)制，在促進(jìn)社會創(chuàng)新方面發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。

美國再頒專利程序申請的條件

      1.證明沒有在該程序的申請中增加新內(nèi)容，即授予專利必須以得到原說明書公開支持；
      2.必須證明，通過授予程序提交的專利是完全或部分無效的，或者不能執(zhí)行，例如，由于說明書或圖紙上的錯誤，認(rèn)為專利不能執(zhí)行，或者專利權(quán)要求大于權(quán)利；推薦閱讀：美國專利有幾種類型？
      3.申請重新授予擴(kuò)大保護(hù)范圍的專利，應(yīng)當(dāng)在原專利批準(zhǔn)之日起兩年內(nèi)提出。由于擴(kuò)大權(quán)利可能會影響公眾利益，包括競爭對手的利益，法例規(guī)定這種擴(kuò)大只能在批準(zhǔn)后兩年內(nèi)完成。此外，法律規(guī)定有有足夠時(shí)間申請重新縮小保護(hù)范圍的權(quán)益，可以在專利有效期內(nèi)的任何時(shí)候提出。

      4.必須證明專利缺陷是由于一個沒有欺詐意圖的錯誤造成的，例如為了證明，此錯誤無意隱藏技術(shù)方案的內(nèi)容；
      5.必須證明新頒發(fā)的主題可以申請專利。
      關(guān)于什么是美國再頒專利申請程序及美國再頒專利申請的條件有哪些的相關(guān)知識，專大師專利申請網(wǎng)小編就為大家分享到這里了，申請專利是為了保護(hù)自己的權(quán)益，不管我們是申請哪個國家的專利，都需要符合相關(guān)的法律法規(guī)，這樣才能保證自己的專利是可以申請下來的。

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